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阿维塔取得清理装置专利实现清理装置对滑橇的底面杂质PP电子

时间:2025-08-10 03:13:47 作者:admin 点击:

  PP电子金融界2025年8月9日消息,国家知识产权局信息显示,阿维塔科技(重庆)有限公司取得一项名为“清理装置”的专利,授权公告号CN223200962U,申请日期为2024年09月。

  专利摘要显示PP电子,本申请实施例涉及清理设备技术领域,公开了一种清理装置PP电子。本申请提供的清理装置包括具有刮除端的刮除机构,刮除端用于抵接滑橇的底面,以在滑橇移动过程中PP电子,刮除滑橇的底面的杂质,支撑机构与刮除机构转动连接,并用于支撑刮除机构,回复机构的一端连接刮除机构PP电子,另一端连接支撑机构,刮除机构在滑橇的底面带动下转动时,回复机构用于使刮除机构紧贴底面。本申请提供的清理装置能够使刮除机构的刮除端随时能够紧贴滑橇的底面,以实现清理装置对滑橇的底面的杂质进行清理。

  天眼查资料显示,阿维塔科技(重庆)有限公司,成立于2018年,位于重庆市,是一家以从事汽车制造业为主的企业。企业注册资本306514.6675万人民币PP电子。通过天眼查大数据分析,阿维塔科技(重庆)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目1352次,财产线条,此外企业还拥有行政许可10个。

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